它们当米国小弟，那都是迫不得已的下下策。
半岛北边，有个整天搞核试验的太阳，岛国西边，有个5000年底蕴的超级大国，它们完全没得选择，只能认米国当大哥。
可认大哥不是认爹，不过哪怕是认爹，也不可能说把核心技术全上交出去，因此两家也不傻，米国提出产业转移的时候，它们都会含糊其辞，糊弄过去。
米国也没有办法，既然没办法产业转移，只能尝试搭建海上供应的货运航线。
可经过一顿折腾，它发现芯片生产成本高了几倍，这还不如继续扶持台积电和联电，充当它们的芯片代工厂。
……
在全网都在思索陈星想干嘛时，他却不紧不慢地介绍产品道：“10^25光刻抗阻的光刻胶，它到底有什么优势呢？”
“芯片业内人士都清楚，芯片的原材料就是半导体硅片，而想要让半导体硅片变成芯片裸片，它就需要进行光刻曝光。”
“说到光刻曝光，那自然少不了光刻胶，也正因为光刻胶会与光源产生化学反应，我们才能把错综复杂，上百亿晶体管的集成电路刻在指甲盖大小的裸片上。”
“回归正题。”
陈星稍稍侧开身体，看向身后的LED屏幕按下PPT遥控器道：“那什么是阻抗呢？”
“说白了，它其实代表了光刻胶的纯度，抗阻越高，”就代表光刻胶纯度越高，而纯度不足就会造成半导体硅片污染，损坏光刻集成电路，下面让我们一起看个演示视频，相信看完以后，会让大家对抗阻有更深层次的理解。”
话音落下。
LED屏幕出现了演示视频。
演示的内容是芯片光刻的整个过程，经过曝光后，视频立即切换到微观层面，去演示光刻胶变化和产生的化学反应。
上千万观众不敢眨眼睛，生怕错过了细节。
只见视频中间部分，弱抗阻的劣质光刻胶在被光刻胶进行光刻后，本该不发生反应的区域也发生了化学反应，导致相对应的裸片集成电路出现了瑕疵。
随着视频播放完，陈星又耐心讲解道：“如正如各位视频所见，抗阻弱的光刻胶会让本不该被曝光的区域发生化学反应。”
“举个例子，我想光刻l型图案，我的光掩膜版也是l型图案，可光刻的同时，因为使用了劣质光刻胶，导致图案上方也发生了化学反应，l型图案成了i型，多了那么一点，这就是半导体硅片污染。”